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| 科技日報:國產22納米光刻機還治不了咱們的“芯”病！ |
[摘要]驗收會上也有記者問：該光刻設備能不能刻芯片，打破國外壟斷？光電所專家回答說：“用于芯片需要攻克一系列技術難題，距離還很遙遠”。
11月29日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收。消息傳著傳著，就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“芯片荒”》……
筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報道，還算熟悉，無法茍同網上一些漫無邊際的瞎扯。
中科院研制的這種光刻機不能（像一些網媒說的）用來光刻CPU。
它的意義是用便宜光源實現較高的分辨率，用于一些特殊制造場景，很經濟。
先解釋下：光刻機不光是制造芯片用。
一張平面（不論硅片還是什么材料）想刻出繁復的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個多世紀前，美國人用這個原理“印刷”電路，從而有了大規模集成電路——芯片。
為了節能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機越做越極端。線條細到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，線條粗細不能低于光波長的一半。頂尖光刻機用波長13.5納米的極紫外光源，好刻10納米以下的線條。
但穩定的、大功率的極紫外光源很難造，一個得3000萬元人民幣。要求工作環境嚴苛，配合的光學和機械部件又極端精密，所以荷蘭的ASML公司獨家壟斷極紫外光刻機，創造了“一臺賣一億美金”的神話。
十幾年前，國際上開始對表面等離子體（surface plasma，SP）光刻法感興趣。中科院光電所從2003年開始研究，是較早出成果的一個團隊。所謂SP，光電所的科學家楊勇向筆者解釋：拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸，界面上有一些亂蹦的電子；光投影在金屬上，這些電子就有序地震蕩，產生波長幾十納米的電磁波，可用來光刻。
但這種電磁波很弱，所以光刻膠得湊近了，才能刻出來。且加工精度與ASML的光刻機沒法比。刻幾十納米級的芯片是沒法用SP光刻機的，至少以現在的技術不能。
驗收會上也有記者問：該光刻設備能不能刻芯片，打破國外壟斷？光電所專家回答說，用于芯片需要攻克一系列技術難題，距離還很遙遠。
總之，中科院的22納米分辨率光刻機跟ASML壟斷的光刻機不是一回事，說前者彎道超車，就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。
各家媒體第一時間報出的信息，就我看到的還算中規中矩。但后來網媒添枝加葉，搞到離譜。有些傳播者為吸引眼球、賺錢，最愛制造“自嗨文”和“嚇尿體”。聽到國產科技成就先往大里吹，驢吹成馬，馬吹成駱駝，好賣個駱駝價。
這種“科技報道”是滿足虛榮心的偽新聞。行家聽了眉頭一緊，避之大吉。也難怪許多科學家怕上新聞。
1、這個設備科研立項也不是用來做高端芯片光刻工藝的，而且光電所也沒有宣傳過這個用途，都是外行和媒體錯誤解讀，一廂情愿的以為這個是芯片制造用的光刻機。
2、光電所已經是國內做得最好的了，飯要一口一口吃，中科院光電所的底蘊是實打實做事的。
由此獲得的技術積累本身很有價值！如高均勻性照明，超分辨光刻鏡頭，納米級分辨力檢焦及間隙測量，超精密、多自由度工件臺及控制等關鍵技術。
3、我們首先解決0到1，再解決1到100，不能因為暫時不能量產、與國外頂尖光刻機比性能有些差距，吃瓜群眾就立馬從吹轉黑。因為目前有差距我們就不可能突破外國人壟斷嗎？肯定不是。
4、或許這么多年以來大家都被各種造假搞怕了，但是看待問題時還是不要戴著有色眼鏡，嘗試寬容，深入思考，實事求是。我們是落后于別人，但暫時沒有成果不代表大家都在混日子，唯成果論本身就不是科學的態度，不接受一上來就直接定性，不接受一桿子把所有科研工作者打死。
5、拋開唯恐天下不亂的非專業胡扯、有偏差的報道，也排除可能光電所宣傳者有意或無意的誤導，也許我們在未來很長一段時間內都無法打破ASML的壟斷，但是也需冷靜看待成果，為實質進步鼓掌。既不吹牛夸大，也不習慣偏見，更無需妄自菲薄。
6、希望以后國內的專家在源頭報道或者講述這些技術的時候，一定要向執筆者講述清楚這個技術的具體意義和差距，別用模棱兩可的詞語，讓媒體帶節奏誤解。這對我國的整個集成電路產業、甚至科技創新來說，也是有積極意義的。有些媒體先胡吹消費一次，以后反轉狂貶，再消費一次，這都是那些無良媒體的套路。
國產的SP光刻機到底牛在哪兒？
很多人只盯著新聞里22nm這個指標，其實大家要關注的是“365nm的光源，單次曝光線寬可達22nm”。注意到我加黑的那幾個關鍵詞了嗎？22nm指標雖然很棒但是業界早就做過了，到底哪里厲害呢？所以關鍵是用365nm的光源單次曝光做到22nm，懂點光學的就知道這意味著什么：打破了傳統的衍射極限。
由于衍射效應，成像分辨率會受到限制，最終的分辨率取決于波長、數值孔徑等參數，波長越小、數值孔徑越大分辨率則越高。所以ASML這些年來主要的研究方向就是利用更短的波長（近紫外-深紫外-極紫外）、增大數值孔徑（更復雜的物鏡、液體浸沒）。但是每進一步都變得更加艱難，對系統設計、加工裝配、誤差檢測等等諸多方面都提出了更為苛刻的要求，成本也越來越高昂。
在光刻機研制方面，我們一直有兩個選擇：沿用ASML的老路走一遍，還是另辟蹊徑通過新原理彎道超車？我們國家目前兩個選擇都在做。而這臺SP光刻機的研制成功，就是讓我們看到了彎道超車的可能性。其實從原理上，這簡直就不是彎道超車了，而是在別的人還在繞山路的時候，我們嘗試著打了一條隧道……雖然還沒有挖通，但曙光就在前方！
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